机译:通过一种新颖的形成技术制造的高性能Ge超浅结,该技术采用旋涂掺杂剂和激光退火技术,适用于10 nm以下的技术应用
机译:Ca [(Li ^ sub 1/3 ^ Nb ^ sub 2/3 ^)^ sub 0.8 ^ Ti ^ sub 0.2 ^] O ^ sub3-δ^填料对聚乙烯和聚苯乙烯的微波介电性能的影响微电子应用
机译:Ca [(Li_(1/3)Nb_(2/3))_(0.8)Ti_(0.2)] O_(3-δ)填充剂对微电子应用聚乙烯和聚苯乙烯的微波介电性能的影响
机译:硼终止的聚苯乙烯作为微电子应用的潜在旋掺杂剂
机译:用于微电子应用的低介电常数多孔旋涂玻璃。
机译:在纳米纹理表面上沸腾的水池状沸腾用于与大功率微电子冷却相关的微重力应用
机译:空间电抗器应用的真空微电子潜力
机译:真空微电子技术在空间电抗器应用中的潜力