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ジスプロシウム選択的吸着特性を示すカルボキシル基修飾 メソポーラスシリカの細孔構造の最適化

机译:羧基孔结构优化羧基改性介孔二氧化硅,显示镝选择性吸附性能

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摘要

レアアースであるジスプロシウム (Dy) は高い保磁力を示すネオジム磁石への添加材として知られており、 さまざまな産業の分野で利用されている。しかし、使用量の増大と希少性から、近年その使用量削減、再利 用化が望まれている。今回、Dyの選択的吸着材として、表面をカルボキシル基修飾したメソポーラスシリカ (MPS) を取り上げた。MPSはその細孔径、比表面積、細孔体積をコントロールすることが可能であり、これ まで当研究グループにおいて、金属イオン1) や生体分子2) などの分離吸着担体として、MPSの応用を報告し ている。本研究において、4種類の細孔サイズの異なるMPSを合成し、その表面に修飾するカルボキシル基の 量を変化させることで、Dyの選択的吸着剤としてMPSの構造最適化を行った結果を報告する。
机译:作为稀土的镝(Dy)被称为钕磁体的添加剂,显示出高矫顽力,并用于各种行业的领​​域。然而,由于使用的增加和rarence,因此需要减少近年来的使用量和确定量。这次,用基于羧基的介孔二氧化硅(MPS)作为Dy的选择性吸附剂溶解表面。 MPS可以控制其孔径,比表面积和孔体积,并将MPS施加作为诸如金属离子1的分离吸附载体,BioOlecule 2)。在这项研究中,通过用不同的四个孔径合成MPS将MPS的选择性吸附剂作为Dy的选择性吸附剂报告,并改变在其表面上改变羧基的量。

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