Dept. of Materials Science and Engineering, State University of New York at Stony Brook, NYrn11794rn;
Standard MEMS, Inc., 35 Marcus Boulevard, Hauppauge, NY 11788;
Dept. of Materials Science and Engineering, State University of New York at Stony Brook, NYrn11794;
机译:用于MEMS的厚多晶硅薄膜的微观结构
机译:MEMS应用的多晶硅薄膜的强度特性表征
机译:MEMS应用的多晶硅薄膜的强度特性表征
机译:MEMS应用厚多晶硅膜的微观结构
机译:定量研究射频MEMS开关中使用的镍电沉积层的微观结构和结晶纤维质地,包括一种用于多晶膜的新型透射电子显微镜(TEM)技术
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:用于MEMS的超高压电子束蒸发低应力厚硅膜的表征