Inst. of Energy Conversion, Univ. of Delaware, Newark, DE, USA;
机译:通过后硒化从单个三元靶溅射沉积的Cu-In-Ga前驱体来制造单相硫族化物的另一种方法
机译:硒化参数对用Cu-In-Ga,Cu-In_2Se_3或Cu-Ga-In_2Se_3靶溅射沉积的Cu(In,Ga)Se_2薄膜生长特性的影响以及随后的550-700℃硒化程序
机译:溅射沉积Zn前驱体膜厚和退火时间对金属靶顺序反应溅射沉积Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响
机译:Cu-In-Ga金属前体溅射从单个三元靶的Cu(LNGA)(SES)2膜形成
机译:固态材料的分子前体:挥发性无水金属硝酸盐作为单源前体分子,用于化学气相沉积金属氧化物薄膜
机译:磁控溅射沉积金属V薄膜的微观结构和氧化行为
机译:Cu12SB4S13和Cu3SBS4薄膜的相位选择生长通过同时溅射金属前体的碳化化合物化