Kanagawa Academy of Science and Technology, 5-4-30 Nishi-Hashimoto, Sagamihara, Kanagawa 229-1131, Japan;
机译:使用阳极多孔氧化铝基质对40 nm直径的DNA进行有序的纳米图案化
机译:在不使用纳米压印的情况下,在0.75 M草酸溶液中制备高度有序的多孔阳极氧化铝膜
机译:纳米光光刻和阳极氧化组合的柔性高度有序多孔氧化铝模板的制造
机译:使用阳极多孔氧化铝的生物分子高度有序纳米图的制造
机译:使用非光刻阳极氧化铝模板的新型高度有序的量子纳米结构阵列的制备及其表征。
机译:通过片上自组装多孔阳极氧化铝掩模通过反应离子刻蚀进行Si纳米图案化
机译:基于高价阳极多孔氧化铝的功能装置的制造