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首页> 外文会议>RIAO/OPTILAS 2004 >Titanium dioxide thin films: refractive index variation as a function of the deposition rate
【24h】

Titanium dioxide thin films: refractive index variation as a function of the deposition rate

机译：二氧化钛薄膜：折射率随沉积速率的变化

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The present work studies the variation of refractive index of titanium dioxide thin films due to changes in the evaporation rate during the deposition process under high vacuum. The experiments were done by depositing thin films on a glass disk of 45 cm in diameter for different deposition rates. To characterize thin films the spectral transmittance in the visible range was measured at different points along of two perpendicular radii. The refractive index profile was then determined from these data by using an inverse synthesis method. The results permitted us to obtain the refractive index variation as a function of evaporation geometry for different deposition rates.
机译：本工作研究了在高真空下沉积过程中由于蒸发速率的变化而引起的二氧化钛薄膜折射率的变化。通过在直径为45 cm的玻璃盘上以不同的沉积速率沉积薄膜来完成实验。为了表征薄膜，在两个垂直半径的不同点测量了可见光范围内的光谱透射率。然后通过使用逆合成法从这些数据确定折射率分布。结果使我们能够获得不同沉积速率下作为蒸发几何形状函数的折射率变化。

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