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折射率变化元件和折射率变化方法

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摘要

提供一种折射率变化元件和折射率变化方法。折射率变化元件包括：包含具有离散能级的多个量子点和包围量子点的介电基体的结构部；和通过介电基体将电子注入量子点的电子注入部。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-11-10

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02F 1/017 授权公告日:20080611 终止日期:20160929 申请日:20050929

专利权的终止
2008-06-11

授权

授权
2008-06-11

授权

授权
2006-05-31

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-05-31

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-04-05

公开

公开
2006-04-05

公开

公开

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1. 折射率变化元件和折射率变化方法 [P] . 中国专利： CN100394254C . 2008.06.11
2. 辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法 [P] . 中国专利： CN1216320C . 2005.08.24
3. Production manner of optical being induced index of refraction change glass material, index of refraction change manner null of optical being induced index of refraction change glass material and glass [P] . 日本专利： JP2832340B2 . 1998-12-09

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4. PRODUCTION OF GLASS MATERIAL ENABLING LIGHT-INDUCED REFRACTIVE INDEX CHANGE, GLASS MATERIAL ENABLING LIGHT-INDUCED REFRACTIVE INDEX CHANGE AND CHANGE OF REFRACTIVE INDEX OF GLASS MATERIAL [P] . 日本专利： JPH09202643A . 1997-08-05

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5. RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CHANGING IN REFRACTIVE INDEX AND METHOD OF CHANGING REFRACTIVE INDEX [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1350814A4 . 2007-09-19

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