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辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法

摘要

一种辐射敏感的折射率变化组合物,其折射率由一种简单的方法来改变,改变的折射率差别足够大,并且还可以提供一种稳定的折射率图案和一种稳定的光学材料,而无论其使用条件。该辐射敏感的折射率变化组合物包含(A)一种可聚合的化合物,(B)一种不可聚合的化合物,它的折射率低于可聚合的化合物(A)的聚合物,和(C)一种辐射敏感的聚合引发剂。

著录项

  • 公开/公告号CN1216320C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 捷时雅株式会社;

    申请/专利号CN02157855.9

  • 申请日2002-12-20

  • 分类号G03F7/004;C08F2/44;G02B1/04;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘元金

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/004 授权公告日:20050824 终止日期:20141220 申请日:20021220

    专利权的终止

  • 2008-03-26

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20021220

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2005-08-24

    授权

    授权

  • 2004-04-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-02

    公开

    公开

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