Sheffield Hallam University, Sheffield, United Kingdom;
arc vaporization; plasma source sputter cleaning; adhesion;
机译:基于磁通密度和功率损耗的时间衍生法分解铁氧体中的磁场强度
机译:尺寸参数和磁场强度对磁通集中器放大特性的影响
机译:通过巧妙设计的磁场有效控制电弧放电产生的等离子流
机译:转向磁场对电弧放电中产生的离子通量组成和强度的影响
机译:原始强度研究对剩磁获取过程和区域地磁场变化的实验研究。
机译:同步辐射和激光辐射在V掺杂和原始拓扑绝缘子中产生的Dirac锥强度不对称性和表面磁场
机译:尺寸参数和磁场强度对磁通集中器放大特性的影响
机译:非均匀纵向磁场影响下环形电弧放电形状的计算