Forschungszentrum Rossendorf e.V., Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, Postfach 510119, 01314 Dresden, Germany;
机译:离子束电压对离子束溅射沉积制备的类金刚石碳薄膜性能的影响
机译:沉积参数对非晶碳和脉冲碳沉积生长的非晶碳膜结构,光学和电学性能的影响
机译:飞秒脉冲激光沉积和嵌入sp键合碳链的类金刚石无定形碳膜的光学性质
机译:通过计算机模拟的离子束沉积过程所生长的金刚石非晶碳膜的弹性性能
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积生长的四面体协调非晶金刚石状碳膜的表面结构
机译:通过脉冲激光沉积生长的四面体配位非晶类金刚石碳膜的表面结构