Nano-Device Laboratory, Department of Electrical Engineering, University of California -Riverside, Riverside, CA 92521 U.S.A.;
机译:记录多晶MOS2薄膜的低导热率:通过晶粒取向调谐导热率
机译:GaN-on-umond HEMT的热特性:多晶钻石各向异性和不均匀导热率的影响
机译:使用超薄Al膜作为钝化层改善Al掺杂ZnO多晶膜的电导率及其热稳定性
机译:多晶GaN薄膜导热系的建模
机译:提高热导率数据的可用性,并对不正确的热导率数据如何影响地热发电模型进行建模。
机译:CVD法制备的双孔多晶GaN薄膜的抗反射和疏水性能研究
机译:多晶mos2薄膜的低导热系数:通过晶粒取向调节导热系数
机译:非晶TiO(2)和多晶ZnO生长ag薄膜的微观结构和电导率比较