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HVPE-GROWN AlGaN/GaN HEMTs

机译:HVPE-GROWN AlGaN / GaN HEMT

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摘要

High quality undoped AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs) structures have been gorwn by Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE). The morphology of the films grown on Al_2O_3 substrates is excellent with root-mean-square roughness of ~0.2nm over 10x10μm~2 measurement area. Capacitance-voltage measurements show formation of dense sheet of charge at the AlGaN/GaN interface. HEMTs with 1um gate length fabricated on these structures show transconductances in excess of 110 mS/mm and drain-source current above 0.6A/mm. Gate lag measurements show similar current collapse characteristics to HEMTs fabricated in MBE- or MOCVD grown material.
机译:氢化物气相外延(HVPE)技术已经使高质量的非掺杂AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)结构成为主流。在Al_2O_3衬底上生长的薄膜的形态非常好,在10x10μm〜2的测量面积上的均方根粗糙度为〜0.2nm。电容电压测量表明在AlGaN / GaN界面处形成了密集的电荷片。在这些结构上制造的栅极长度为1um的HEMT的跨导超过110 mS / mm,漏源电流超过0.6A / mm。栅极滞后测量显示出与MBE或MOCVD生长材料中制造的HEMT相似的电流崩塌特性。

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