【24h】

PLD epitaxial TiN contacts to 6H-SiC and GaN

机译:PLD外延TiN接触6H-SiC和GaN

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摘要

We have investigated the influence of TiN growth temperature on the contact resistance in STiN/SiC and TiN/GaN heterostructures. Epitaxial TiN layers grown at temperatures above 600 deg C formed low resistance contacts of n-type 6H-SiC and GaN of 1.1x 10~(-5) OMETA cm~2 and 7.0 x 10~(-5) OMETA cm~2, respectively. Structural and electrical characterization of TiN thin films is discussed.
机译:我们研究了TiN生长温度对STiN / SiC和TiN / GaN异质结构中接触电阻的影响。在高于600摄氏度的温度下生长的外延TiN层形成了n型6H-SiC和GaN的低电阻触点,GaN的1.1x 10〜(-5)OMETA cm〜2和7.0 x 10〜(-5)OMETA cm〜2,分别。讨论了TiN薄膜的结构和电学特性。

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