AGH University of Science and Technology, Faculty of Metals Engineering and Industrial Computer Science, Al. A. Mickiewicza 30, 30-059 Krakow, Poland;
pulsed electron deposition; LaCaCoO_3; nonstoichiometric perovskite; thin films;
机译:电子能量对通过脉冲电子沉积(PED)技术制备的功能钙钛矿La_(0.6)Ca_(0.4)CoO_3薄膜的结构演变的影响
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:脉冲电子沉积La_(0.6)Pb_(0.4)Mn _(0.8)Ru_(0.2)O_3薄膜的磁阻研究和沉积参数优化
机译:电子能量对由脉冲电子沉积(PED)技术产生的功能性钙钛矿LA_(0.6)CA_(0.4)CA_(0.4)CO_3薄膜的结构演变
机译:共轭聚合物和杂化纳米复合薄膜的基质辅助脉冲激光蒸发:一种用于有机光电器件的新型沉积技术。
机译:氧化铝衬底上低温脉冲电子沉积技术获得的In2O3纳米薄膜的气敏特性
机译:结构,磁性和超导性能 脉冲激光沉积生长 $ \ rm {La_ {1.85} sr_ {0.15} CuO_ {4} / La_ {2/3} Ca_ {1/3} mnO_ {3}} $ superlattices on $ \ rm {(001)} $ - 面向$ \ rm {LasralO_ {4}} $基板