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光纤定位硅V型槽的设计与制作

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文摘

英文文摘

第一章绪论

§1.1引言

§1.2光纤定位硅V型槽的发展状况

§1.3论文的目的及内容

第二章光纤定位硅V型槽的设计原理

§2.1光纤的传输特性

§2.2光纤的损耗

§2.3光纤定位硅V型槽的设计原理

第三章光纤定位硅V型槽的制作工艺

§3.1掩蔽膜的制备

§3.2光刻

§3.3腐蚀

§3.4镜检及精度测量

第四章光纤定位硅V型槽的应用

§4.1光纤与导波光学器件的耦合

§4.2光纤阵列的光集成

结 论

致 谢

参考文献

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摘要

通过光纤把外部光源引入SOI集成光路时,为减少偶然因素对耦合效率的影响,需解决光纤定位问题,以及为提高多通道波导型器件、半导体激光器阵列、光开关阵列等与光纤的耦合效率问题,作者利用单晶硅材料,设计并制作出具有高精度光纤定位功能的硅V型槽及其阵列.该文围绕硅V型槽的设计和制作,从理论上详细分析了单模光纤与脊形波导的模式特点,得出最佳的耦合条件,在此基础上设计出最合适的硅V型槽结构.在实践上,对制作工艺积极探索,提出新的制备硅掩蔽膜的工艺方案,对影响光刻质量的因素深入分析.试验摸索出适用于V型槽的各向异性湿法腐蚀的腐蚀液配方,独立优化设计了制作硅V型槽的相关工艺,制作出高质量的硅V型槽.并展示了它广阔的应用前景和科研产品的开发价值.

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