电大尺寸目标的高频方法电磁散射特性分析及快速成像技术研究

声明

摘要

1绪论

1．1研究背景及意义

1．2国内外研究概况

1．3本文内容的结构安排

2高频方法基本理论

2．1引言

2．2雷达散射截面

2．3物理光学法

2．3．1物理光学方法基本原理

2．3．2遮挡判断

2．4弹跳射线法

2．4．1射线路径追踪

2．4．2射线场强追踪

2．4．3远场积分

2．5本章小结

3电大尺寸金属介质混合目标的高频方法分析

3．1引言

3．2均匀介质涂覆金属目标的电磁散射特性

3．2．1介质涂覆目标的PO方法

3．2．2多层介质涂覆的广义反射系数

3．2．3数值算例分析

3．3非均匀介质金属混合目标的电磁散射特性

3．3．1电磁波在有耗媒质中的射线传播理论

3．3．2有耗媒质中的射线场强追踪

3．3．3金属介质混合目标的SBR计算过程

3．4数值算例分析

3．5本章小结

4电大尺寸目标高频方法快速成像

4．1引言

4．2基于高频方法回波的ISAR成像

4．2．1二维ISAR成像原理

4．2．2数值算例分析

4．3基于SBR的二维ISAR成像

4．3．1 SBR成像原理

4．3．2数值算例分析

4．4 SBR快速成像技术研究

4．4．1射线成像公式改进

4．4．2基于GPU并行的快速射线追踪

4．4．3数值算例分析

4．5本章小结

5结论与研究展望

5．1全文总结

5．2研究展望

致谢

参考文献

附录