非连续六硼化镧纳米薄膜的制备、表征及光学性能研究

声明

摘要

第一章 绪论

1．1 LaB6的结构、性质及应用

1．1．1 LaB6的晶体和电子结构

1．1．2 LaB6的物理和化学性质及应用

1．2 LaB6的研究现状

1．2．1 LaB6单晶材料的研究

1．2．2 LaB6多晶体材料的研究

1．2．3 LaB6粉末的研究

1．2．4 LaB6薄膜的研究

1．3 LaB6薄膜的制备方法

1．4 LaB6薄膜的生长机制

1．4．1 LaB6薄膜的生长模型

1．4．2 影响LaB6薄膜生长的主要因素

1．5 离子束表面处理

1．6 选题意义及研究内容

第二章 实验方案及研究方法

2．1 技术路线及研究方案

2．2 实验用原材料及制备过程

2．2．1 靶材烧结原材料

2．2．2 基底材料

2．3 靶材的制备

2．4 基底的离子束处理

2．5 LaB6薄膜的制备

2．6 LaB6薄膜热处理

2．7 LaB6薄膜形貌成分及性能特征

2．7．1 薄膜结构表征

2．7．2 薄膜表面形貌表征

2．7．3 薄膜成分分析

2．7．4 薄膜光学性能分析

第三章 磁控溅射制备LaB6非连续薄膜的工艺研究

3．1 离子束处理时间对石英玻璃基底的影响

3．2 磁控溅射时间对LaB6薄膜的影响

3．3 热处理对LaB6薄膜的影响

3．4 本章小结

第四章 LaB6非连续薄膜的表征及生长方式研究

4．1 LaB6非连续薄膜的生长模式分析

4．2 LaB6薄膜的成分和结晶度分析

4．3 薄膜的表面粗糙度和高度分析

4．4 本章小结

第五章 直流磁控溅射石英玻璃基LaB6薄膜的光学性能

5．1 离子束处理对LaB6非连续薄膜光学性能的影响

5．2 磁控溅射时间对LaB6非连续薄膜光学性能的影响

5．3 热处理对LaB6非连续薄膜光学性能的影响

5．4 LaB6非连续薄膜透光隔热性能计算

5．5 本章小结

第六章 结论

参考文献

致谢