Canon KrF扫描光刻机套准精度的改进方法研究

代理获取

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

随着IC制造业的迅速发展，光刻成像技术的不断提高，芯片的特征尺寸也不断的缩小，而关键尺寸的缩小则产生了对套刻精度更高的要求。套准精度(Overlay)是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一，也是新型光刻技术需要考虑的一个重要部分。套准精度将会严重影响产品的良率和性能。提高光刻机的套准精度，亦是决定最小单元尺寸的关键。我们有必要研究IC制造工艺与光刻对准的关系，从而挖掘出影响光刻对准精度的因素，并加以改进。套准精度就是微影制程中，当前层与前层之间的叠对精度。如果微影制程的套准精度超过误差容忍度，则层间设计电路可能会因为位移产生断路或短路，从而影响产品良率。套准误差产生的原因有很多种形式，其中包括平移、旋转、扩张等各种形式，而不同的误差形式都会对曝光位置的偏移量造成不同的影响。本文通过对光刻机的理论分析和实验结果，了解影响光刻机套准精度的一些方面，并加以改善。我们将从三个方面加以探讨和研究：讨论光刻机外在温度对晶圆的影响而引起的套准误差，并从光刻机硬件方面考虑和改造来改善其套准精度；通过对光刻机结构的探讨和研究，了解激光干涉仪对曝光平台的步进控制原理，改善曝光台的步进精度，从而改善机台的套准误差；通过对光刻机软件参数的补偿，能够比较容易的调整套准精度，较少套准误差，来对光刻的套准精度进行改善。

著录项

作者
刘法泉;
展开▼
作者单位

上海交通大学;

展开▼
授予单位上海交通大学;
学科软件工程
授予学位硕士
导师姓名汪辉,王道南;
年度 2008
页码
总页数
原文格式 PDF
正文语种中文
中图分类 TN405.7;
关键词
扫描光刻机; 套准精度; 改进方法; IC制造工艺;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 0.13μm工艺与248nm KrF光刻机 [J] . 翁寿松 . 电子与封装 . 2003,第005期
2. 光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究 [J] . 周清华 ,胡松 ,杜靖 . 电子工业专用设备 . 2016,第001期
3. 步进扫描光刻机扫描运动轨迹规划及误差控制 [J] . 穆海华 ,周云飞 ,周艳红 . 机械工程学报 . 2010,第2期
4. 步进扫描光刻机硅片台连续扫描时间优化算法 [J] . 潘海鸿 ,李小清 ,严思杰 . 机械工程学报 . 2008,第10期
5. 让扫描更快一些——Canon CanoScan D1250U2扫描仪评测报告 [J] . . 中国计算机用户 . 2002,第014期
6. 微米级线宽双台面套准精度的研究 [C] . 王雯 ,陈刚 ,陈谷然 . 第十七届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议 . 2012
7. 100nm步进扫描光刻机高精度温度测量技术研究 [A] . 于丽丽 . 2005

Canon KrF扫描光刻机套准精度的改进方法研究

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅