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共沉淀法制备铋取代钇铁石榴石磁光薄膜的研究

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目录

第一章 引言

摘要

ABSTRACT

第二章 文献综述

第三章 共沉淀法制备BI-YIG纳米颗粒

第四章 共沉淀法加旋转镀膜法制备磁光复合薄膜

第五章 共沉淀法加高温热解法制备BI-YIG薄膜

第六章 共沉淀法制备用于磁控溅射的BI-YIG陶瓷靶材

参考文献

研究生阶段所发表论文

致谢

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摘要

磁光记录是目前发展最完备的可擦除重写式光记录技术。从记录密度角度考虑,由于光衍射的限制,最小记录尺寸与激光源的波长成正比。因此传统的磁光记录介质-稀土金属与过渡组金属的合金就表现出局限性,因为这种材料在短波长范围的磁光效应很小。而且在没有很好封装的情况下,它的化学稳定性很差。铋取代钇铁石榴石在短波长范围有巨大的磁光效应,而且它的化学稳定性良好。这种材料吸引人们的广泛研究,并被看作最具前景的下一代磁光记录介质。在本文的综述部分,首先介绍了什么是磁光效应,并且总结了不同类别的磁光材料。然后着重介绍了铁石榴石磁光材料的结构、磁学与磁光学性能、和它的发展历程。接下来介绍了Bi-YIG材料在目前的应用,例如磁光隔离器、磁光电流/磁场传感器和磁光记录等。最后比较了不同解释磁光现象的理论模型。本文实验研究由以下四部分组成:1.共沉淀法制备Bi-YIG纳米颗粒。讨论了PH值、研磨时间和热处理条件对Bi-YIG纳米颗粒结晶情况和晶粒尺寸的影响。2.共沉淀法加旋转镀膜法制备磁光复合薄膜。

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