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第一章绪论
§1.1微纳米加工与曝光技术
§1.2国内外电子束曝光技术的状况和应用
§1.3电子束曝光技术的应用及问题
§1.4基于扫描电镜的纳米级电子束曝光系统研究的意义及存在的问题
§1.5聚焦偏转系统的作用及其概要
§1.6论文的选题及工作
§1.7本章小结
参考文献
第二章聚焦偏转系统的电子光学理论
§2.1物镜、偏转器及校正元件的空间场
§2.2聚焦偏转系统的光学性能计算
§2.3聚焦偏转系统的五级像差分析
§2.4聚焦偏转系统的优化
§2.5小结
参考文献
第三章JSM-35CF电镜的电子光柱性能及相关研究
§3.1 JSM-35CF电镜的电子光学柱结构和性能
§3.2基于JSM-35CF电镜的聚焦偏转系统的优化仿真计算
§3.3偏转系统的五级像差
§3.4磁聚焦偏转系统的涡流抑止
§3.5几种常见静电偏转器的性能及其比较
§3.6小结
参考文献
第四章基于JSM-35CF的纳米级聚焦偏转系统
§4.1聚焦偏转系统计算
§4.2偏转器安装调整
§4.3精度和误差分析
§4.4实验结果
§4.5小结
参考文献
第五章大扫描场纳米级聚焦偏转系统的探讨
§5.1纳米级电子束曝光机聚焦偏转系统设计的一般原理
§5.2基于VAL原理和优化设计方法的纳米级聚焦偏转系统的研究
§5.3双物镜双偏转器的纳米级聚焦偏转系统
§5.4小结
参考文献
第六章总结
§6.1结论
§6.2需进一步研究的问题
攻读博士学位期间发表的论文
致谢
论文答辩说明和关于论文使用授权的说明
