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摘要
第1章绪论
1．1课题研究背景与意义
1．1．2 X射线光栅相位衬度成像
1．1．3 X射线光栅相衬成像装置
1．1．4 X射线光栅相衬成像存在的问题和解决思路
1．2 X射线相衬成像光栅的研究进展
1．2．1 LIGA技术
1．2．2硅体微加工技术
1．3本论文研究内容和结构安排
参考文献
第2章大尺寸大高宽比吸收光栅光刻工艺研究
2．1．1光栅相衬成像平台
2．1．2光栅的参数设计
2．2光栅的制作工艺
2．2．1 SU-8光刻胶的应用
2．2．2吸收光栅制作工艺
2．2．3实验所需材料与仪器
2．3．1线宽的精确控制
2．3．2大尺寸光栅结构曝光均匀性
2．4 SU-8显影工艺研究
2．5大高宽比光栅结构的研究
2．5．1 大高宽比光栅结构的缺陷成因
2．5．2大高宽比结构光栅的实现
2．6本章小结
参考文献
第3章大尺寸大高宽比吸收光栅电镀工艺研究
3．1．1 电镀金工艺的选择
3．1．2实验方法及材料
3．1．3全水环境电镀
3．1．4电镀速率与镀层厚度计算
3．2镀层内应力的研究
3．2．1 镀层内应力的产生机理
3．2．2镀层内应力的影响因素
3．2．3镀层内应力的测量
3．2．4电流密度对镀层内应力的影响
3．2．5镀层结构分析
3．3大高宽比微结构电镀工艺研究
3．4大尺寸微结构电镀工艺研究
3．5本章小结
参考文献
第四章大尺寸大高宽比吸收光栅的检测
4．1 X射线吸收光栅的检测
4．1．1 X射线吸收光栅检测方法的选择
4．1．2微结构的常用检测方法
4．1．3 X射线吸收光栅的检测方法
4．2大尺寸大高宽比光栅的检测方法
4．2．1 大高宽比微结构的固定
4．2．2大高宽比微结构的检测方法
4．2．3 基于X射线吸收衬度成像的检测
4．3 本章小结
参考文献
第五章总结与展望
5．1 总结
5．2展望
致谢
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果
