几种氟碳薄膜制备方法及其表面形貌特征分析

陈晖; 周细应; 孙卿; 马树杰

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几种氟碳薄膜制备方法及其表面形貌特征分析

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本文介绍了等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）和磁控溅射法制备氟碳（FC）薄膜，概述了相应FC薄膜的表面形貌特征，主要介绍了电感耦合等离子体化学气相沉积法（ICP—CVD）、电子回旋共振等离子体化学气相沉积法（ECR—CVD）、介质阻挡放电等离子增强化学气相沉积法（DBD—PECVD），最后比较分析了各种制备方法的优缺点。

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来源
《磨料磨具通讯》 |2011年第1期|P.20-22|共3页
作者
陈晖; 周细应; 孙卿; 马树杰;
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作者单位

上海工程技术大学材料工程学院,上海201600;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类碳C;
关键词
氟碳薄膜; 制备方法; 表面形貌;

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