XPS研究电抛光铜表面粘液膜的组成

罗兴华; 方景礼

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金属的电抛光应用越来越广泛.但电抛光机理至今仍不很清楚.我们曾用XPS和AES研究了不同槽电压下电抛光铜表面的组成和物种,确认其表面均为纯铜,不存在含磷固体膜.本文用XPS研究电抛光液中1-羟基乙叉-1,1-膦酸(HEDP)浓度、抛光液的pH及其接受体(HPO,HEDP和HEDP+HPO)变化时铜的表面组成,并进一步证明,电抛光时形成的粘液膜是水溶性膜,铜表面在不同抛光条件下并不形成难溶的含磷固体膜.通过电子能谱对固化后粘液膜组成和深度分布的研究确定,粘液膜可能是铜的多核聚合混合配体配合物,其组成可近似地表示为[Cu(PO)(HEDP)].

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来源
《化学学报》 |1985年第3期|278-281|共4页
作者
罗兴华; 方景礼;
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作者单位

上海市测试技术研究所;

南京大学应用化学研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类金属学与热处理;
关键词
粘液膜; 含磷; 接受体; 电抛光; 电解抛光; HEDP; 铜表面; XPS;

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