添加剂3-巯基-1-丙烷磺酸钠对铜电沉积影响的研究

钟琴; 辜敏; 李强

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添加剂3-巯基-1-丙烷磺酸钠对铜电沉积影响的研究

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采用循环伏安(CV)、线性电位扫描(LSV)、计时安培(CA)和交流阻抗(AC impedance)电化学方法结合扫描电镜(SEM)研究了不同浓度的3-巯基-1-丙烷磺酸钠(MPS)对CuSO4-H2SO4体系中铜在玻碳电极(GCE)上的电沉积过程的影响.CV,LSV和AC impedance实验结果一致表明MPS阻化铜的电沉积,并且随着MPS浓度的增加,其阻化作用增强.但是MPS对Cu的电结晶过程表现为促进作用,CA与SEM研究结果一致表明,MPS不改变Cu的电结晶成核机理,仍然按瞬时成核和三维生长方式进行,并且成核数目随着MPS浓度的增大而增加.

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来源
《化学学报》 |2010年第17期|1707-1712|共6页
作者
钟琴; 辜敏; 李强;
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作者单位

重庆大学资源及环境科学学院;

西南资源开发与环境灾害控制工程教育部重点实验室;

重庆;

400044;

重庆大学资源及环境科学学院;

西南资源开发与环境灾害控制工程教育部重点实验室;

重庆;

400044;

重庆大学资源及环境科学学院;

西南资源开发与环境灾害控制工程教育部重点实验室;

重庆;

400044;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
MPS; 铜; 电沉积; 电结晶;

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