聚合物基ZnO纳米线的制备和生长机理研究

高利聪; 贺英; 周利寅

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聚合物基ZnO纳米线的制备和生长机理研究

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采用独特的高分子溶液自组装生长方法,在经化学镀预处理的基底上利用高分子溶液的网络络合效应制备了ZnO纳米线.通过场发射扫描电子显微镜(FE-SEM),X射线能谱仪(EDS)等对样品的表面形貌及组成进行了观测表征.结果显示,纳米线直径约50 nm,长度达到了数微米;产物Zn、O化学计量比接近1:1.通过Si基底经化学镀工艺预处理和未经化学镀预处理对ZnO纳米结构、紫外吸收和PL性能影响的分析比较,发现了化学镀Ni对于纳米线长度和直径尺寸的控制更为有效;在PL图谱中,经化学镀预处理的样品在中心波长385 nm出现了由激子碰撞复合所形成的近紫外发光峰.进一步还分析了在不同的pH值和反应时间下样品的紫外吸收和光致发光性能.通过以上实验,讨论并提出了ZnO纳米线的生长机理及过程,认为纳米线的生长是在化学镀催化剂和高分子双重作用下进行的.

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来源
《化学学报》 |2008年第14期|1713-1719|共7页
作者
高利聪; 贺英; 周利寅;
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作者单位

上海大学材料科学与工程学院;

高分子材料系;

上海;

200072;

上海大学材料科学与工程学院;

高分子材料系;

上海;

200072;

上海大学材料科学与工程学院;

高分子材料系;

上海;

200072;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
ZnO纳米线; 化学镀Ni; 自组装; 光致发光(PL); 紫外吸收;

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