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低介电常数(low-k)介质在ULSI中的应用前景

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本文讨论了ULSI的发展对低介电常数(low-k)介质的需求,介绍了几种有实用价值的low-k介质的研究和发展现况,最后评述了low-k介质在ULSI中应用的前景.

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来源
《电子学报》 |2000年第11期|84-8795|共5页
作者
阮刚; 肖夏; 朱兆旻;
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作者单位

复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,200433;

开姆尼茨技术大学微技术中心,开姆尼茨,D09109,德国;

复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,200433;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类大规模集成电路、超大规模集成电路;
关键词
极大规模集成电路; 低介电常数材料; 无机介质; 有机聚合物介质;

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