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陈凯晴; 管钰晴; 邹文哲; 邓晓; 孔明; 陈雅晴; 熊英凡; 傅云霞; 雷李华;
中国计量大学计量测试工程学院;
上海市计量测试技术研究院;
同济大学物理科学与工程学院;
上海市在线检测与控制技术重点实验室;
计量学; Cr原子光刻技术; 比对定值; 光栅标准物质; 自溯源; 扁平化; AFM;
机译:使用铝线栅的原子间隔物光刻技术制造大面积38 nm半间距光栅
机译:极紫外光刻技术的化学放大抗蚀剂的评估和可扩展性:超过22 nm半间距的纳米光刻技术的考虑
机译:间距为90 nm的25 nm接触孔的图案化:线/空间双曝光浸没光刻技术和等离子辅助收缩技术的结合
机译:通过使用柔性聚合物印模的纳米压印光刻技术制造大面积,70 nm间距的纳米光栅图形
机译:使用光栅回波原子干涉仪测量原子反冲频率的技术。
机译:干涉光刻技术制备的金光栅用于表面等离激元的局域和传播实验研究
机译:多个纳米压印光刻技术和空间频率加倍的大面积50 nm周期光栅
机译:用于原子干涉测量的大面积独立式光栅使用全息光刻技术制作
机译:用于同时控制多个直接测量到差动电流的设备低于或超过一定的最小值-或hoechst值,在技术设备运行期间必须同时保持这些值
机译:用于测量混合气体的光学光栅传感器以及一种基于光栅的测量方法,该方法基于光栅,使用长周期光栅或短周期光栅
机译:和从约1nm起使用产生约30nm的波长范围的放射线的方法以及设备以及光刻设备或者测量设备一起使用
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