强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

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• 来源
  《物理学报》 |2009年第10期|7101-7107|共7页
• 作者

  赵安昆; 任忠鸣; 任树洋; 操光辉; 任维丽;

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• 作者单位

  上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

  上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

  上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

  上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

  上海大学材料科学与工程学院,上海,200072;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 物理学;
• 关键词

  真空蒸镀; 强磁场; 晶面取向; Te薄膜;