首页> 中文期刊> 《物理学报》 >AlGaN插入层对6H-SiC上金属有机物气相外延生长的GaN薄膜残余应力及表面形貌的影响

AlGaN插入层对6H-SiC上金属有机物气相外延生长的GaN薄膜残余应力及表面形貌的影响

         

摘要

研究了具有不同台阶数目的AlGaN插入层对在6H-SiC衬底上利用金属有机物气相外延(MOVPE)生长的GaN体材料残余应力和表面形貌的影响.高分辨率X射线衍射测试表明样品的c轴晶格常数随台阶数目的增多而增大;低温光荧光谱中GaN发光峰也随着台阶数目增多而发生蓝移,这些变化都反映出GaN中残余张应力的减小.此外,原子力显微镜测试表明样品表面起伏和粗糙度也都随着插入层的引入和台阶数目的增多得到了明显的改善.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2009年第10期|7282-7287|共6页
  • 作者单位

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学电子工程系,清华信息科学与技术国家实验室(筹),集成光电子学国家重点实验室,北京,100084;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    残余应力; 表面形貌; SiC衬底; AlGaN插入层;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号