红外激光诱导SF6与硅和钨的表面化学反应

何志芳

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红外激光诱导SF6与硅和钨的表面化学反应

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本文研究了TEA CO_2激光诱导SF_6与单晶硅和金属钨的表面化学反应。实验结果表明这些反应的反应率与激光频率之间具有明显的依赖关系,在频率为942.2cm^(-1)处反应率呈极大值。对于SF_6-Si体系,反应率与硅的不同晶面有关,在相同条件下Si(100)面与SF_6的反应率大于Si(111)面。对于SF_6-W体系,测定了激光能量密度和脉冲辐照次数与反应率之间的关系,其反应阈值为1Jcm^(-2),并测得该反应的速率与SF_6分压呈一级反应关系。同时,还讨论了上述反应的机理,认为气态振动受激的六氟化硫分子与被激光激活的固相表面之间的相互作用是反应的主要过程。

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来源
《物理化学学报》 |1989年第1期|67-71|共5页
作者
何志芳;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类表面处理;
关键词
SF6; 硅; 钨; 表面化学反应; 激光;

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