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Sematech在VLSI会议上报告最新进展

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Sematech研究人员正致力于III-V族和SiGe等异质结半导体的研究工作。在2008年度VLSI技术论坛上,Sematech的科学家们发表了的三篇论文,文中他们介绍了对GaAs器件的应力技术以及SiGe晶体管的高介电常数（k）绝缘材料的研究成果。

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来源
《集成电路应用》 |2008年第9期|30|共1页
作者
David Lammers;
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正文语种 chi
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