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Arun R. Srivatsa;
KLA-Tencor Corp.;
机译:三维光谱椭圆偏光-光学临界尺寸计量学提取SiGe沟道FinFET器件Ge浓度的方法
机译:光谱椭圆偏光法分析醋酸锌浓度对ZnS薄膜光学性能的影响
机译:光谱椭圆偏光法和光致变色含氧氢化钇薄膜的微结构表征
机译:非常规椭圆偏光法,光热偏转光谱和等离振子共振光谱法测量薄膜的光学常数
机译:薄膜-锗-氢的生长和相演化的实时光谱椭圆偏光法
机译:光谱椭圆形表征沉积和退火的非化学计量铟锌氧化锌薄膜
机译:在45nm技术节点以下
机译:扫描椭圆偏光法作为吸收表面薄膜表征的工具。
机译:椭圆偏光分析仪,椭圆偏光分析程序及用于测量薄膜厚度变化
机译:通过以下方面对主要专利n 488319的目的进行的改进:改进了纺纱机械的喂入和计量纺织纤维的系统。
机译:适用于45NM节点或更大的NAND闪存应用的高介电常数截止介电带隙工程化的氧化硅-氮化物-氧化物-半电子和金属氧化物-氮化物-氧化物-半电子
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