生长在类单晶硅片上的Ni81Fe19薄膜的微结构和磁性能研究

王禹; 邹帅; 徐思晨; 朱齐山; 彭斌; 张万里; 汤如俊

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生长在类单晶硅片上的Ni81Fe19薄膜的微结构和磁性能研究

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cqvip:本文研究了生长在类单晶硅片上Ni81Fe19薄膜的微观结构和磁学性能。结果表明Ni81Fe19的表面形貌与类单晶硅片的表面形貌一致,具有高度的织构取向。Ni81Fe19的矫顽力与剩磁比随薄膜厚度的增加而增加。其厚度达到40 nm后,其矫顽力与剩磁比达到饱和。对薄膜进一步的真空退火的结果显示薄膜的磁性无显著变化,这表明其磁性主要由基板的表面微结构而不是制备条件决定。上述结果有助于在类单晶硅器件上更好地集成Ni81Fe19薄膜。

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来源
《应用物理》 |2019年第6期|P.300-304|共5页
作者
王禹; 邹帅; 徐思晨; 朱齐山; 彭斌; 张万里; 汤如俊;
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作者单位

[1]苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜重点实验室江苏苏州;

[2]加拿大太阳能公司江苏苏州;

[3]电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室四川成都;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类固体物理学;
关键词
类单晶硅片; NiFe; 磁性;

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