偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响

吕学超; 汪小琳; 鲜晓斌; 郎定木; 董平

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偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响

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分别用扫描电镜、X射线衍射仪和应力分析仪研究了5种不同偏压的施加对铀上磁控溅射铝镀层微结构和残余应力的影响.结果表明,偏压强烈影响镀层的组织.-300V下的组织致密性最差,低偏压下的优于未加偏压(0 V)的;偏压在-200 V及以下时的铝镀层择优取向于(111)低能晶面,高于-200 V时,择优取向由(111)转变为(200)晶面.不同偏压条件下制备的铝镀层的残余应力均较小,为数十MPa量级,但随着偏压的逐渐增加,残余应力由拉应力向压应力转变.

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来源
《原子能科学技术》 |2003年第z1期|121-125|共5页
作者
吕学超; 汪小琳; 鲜晓斌; 郎定木; 董平;
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作者单位

中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;

中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900;

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正文语种 chi
中图分类 TL214.6;
关键词
偏压; 镀层; 微结构; 残余应力;

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