大束流离子注入机颗粒改善

杨怡; 陈果

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大束流离子注入机是半导体行业中一种十分重要的设备,在生产过程中,影响注入机产品良率和产能的关键因素是颗粒的多少.大束流离子注入机采用靶盘式结构,腔体空间大,腔体内真空度相较于中束流离子注入机低,束流路径大,因此产生颗粒的几率更大.本文先分析了大束流离子注入机颗粒产生的原因,然后提出了气体传导率限制缝和锯齿石墨两种减少颗粒的结构设计,并进行了实验验证,最后给出了颗粒偏高后查找颗粒源的几种方法.

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来源
《自动化博览》 |2018年第7期|84-87|共4页
作者
杨怡; 陈果;
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作者单位

杭州士兰集昕微电子有限公司,浙江杭州 310000;

杭州士兰集昕微电子有限公司,浙江杭州 310000;

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正文语种 chi
中图分类掺杂;
关键词
离子注入机; 颗粒减少; 气体传导率限制缝; 锯齿石墨; 颗粒源;

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