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光刻胶聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂的合成

         

摘要

介绍了用于高硅光刻胶的聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂的合成方法.探讨了温度、时间、搅拌等条件对合成结构的影响.该合成方法可操作性强,工艺简单成本较低.合成得到的聚硅氧烷和硅倍半氧烷树脂适合用于光刻胶原料,抗蚀性能非常优异.

著录项

  • 来源
    《化工管理》 |2017年第24期|59|共1页
  • 作者单位

    潍坊市第一中学,山东 潍坊 261205;

    潍坊星泰克微电子材料有限公司,山东 潍坊 261205;

    潍坊星泰克微电子材料有限公司,山东 潍坊 261205;

    潍坊星泰克微电子材料有限公司,山东 潍坊 261205;

    潍坊星泰克微电子材料有限公司,山东 潍坊 261205;

    潍坊星泰克微电子材料有限公司,山东 潍坊 261205;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    聚硅氧烷; 聚硅倍氧半烷; 光刻胶; 刻蚀性能;

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