吸附溶出伏安法研究(Ⅰ)—铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸的测定

孙长林; 胡伟; 邵君波; 朱亚尔

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吸附溶出伏安法是近年发展起来的一种新的电分析方法。Kalvoda[1.2]等对其机理及应用作了报导,孙长林等研究了铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸(RSH)的阴极溶出行为,认为所得溶出峰为吸附溶出峰。本文对其机理作了进一步探讨,证实了其电积过程为吸附过程。并用拟定的方法,无需前处理,测定了人血清中ppm级的RSH,结果满意。

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来源
《高等学校化学学报》 |1986年第9期|786-788|共3页
作者
孙长林; 胡伟; 邵君波; 朱亚尔;
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作者单位

浙江工学院化工系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类分析化学;
关键词
铜(Ⅱ); 吸附溶出伏安法; 半胱氨酸; 电分析方法; Ⅰ); 阴极溶出; 痕量; 吸附过程;

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