首页> 中文期刊> 《化学研究与应用》 >硅酞菁衍生物的合成、光学性质及对DNA的光切割活性研究

硅酞菁衍生物的合成、光学性质及对DNA的光切割活性研究

         

摘要

以硅酞菁为母核,设计并合成了衍生物SiPc1,其结构经UV、1H-NMR和MS等确证.以DMSO为溶剂,对SiPc1的光物理性质进行了检测,SiPc1的Q-带最大吸收峰为682 nm;以ZnPc(ΦF=0.20,Φ△=0.67)为参照,得出SiPc1的荧光量子产率(ΦF)为0.25,单线态氧量子产率(Φ△)为0.78,均大于ZnPc.采用凝胶电泳法研究了SiPc1对DNA的光切割活性,结果表明,SiPc1对pBR322 DNA有良好的光切割活性.

著录项

  • 来源
    《化学研究与应用》 |2018年第10期|1616-1620|共5页
  • 作者单位

    武汉工程大学化工与制药学院;

    绿色化工过程教育部重点实验室;

    湖北武汉430073;

    武汉工程大学化工与制药学院;

    绿色化工过程教育部重点实验室;

    湖北武汉430073;

    武汉工程大学化工与制药学院;

    绿色化工过程教育部重点实验室;

    湖北武汉430073;

    武汉工程大学化工与制药学院;

    绿色化工过程教育部重点实验室;

    湖北武汉430073;

    武汉工程大学化工与制药学院;

    绿色化工过程教育部重点实验室;

    湖北武汉430073;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 杂环化合物;
  • 关键词

    硅酞菁; 荧光量子产率; 单线态氧量子产率; DNA光切割活性;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号