概伦电子推出基于IBM专利技术的高效良率导向设计（DFY）工具——NanOYieId^TM

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机译：用于集成电路设计和制造中的良率建模和良率提高的框架。

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机译：复杂的小批量电子仿真工具，可提高良率和可靠性

机译：在快速离子 - 固体碰撞中，与出口电荷状态一致测量的护良电子产额和里德堡电子产额的靶厚度依赖性的比较

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机译：基于微电子制造中的工艺性能和良率确定最佳光刻重叠目标的方法

机译：作为良率提高良率的方式