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国内首台自主研发“光刻机”在合肥面世

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国内首台拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白。芯硕半导体公司透露，芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势，分辨率已达到0．65微米。

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来源
《中国科技投资》 |2008年第3期|12-12|共1页
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻机; 自主研发; 国内; 合肥; 半导体公司; 自主知识产权; 运行成本; 分辨率;

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