正畸托槽去除后两种釉质抛光法对比研究--釉质扫描电镜观察

付善民; 丁寅; 王海雪; 史真; 曹猛

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目的:观察去除黏结后釉质表面不同处理方法对牙齿表面结构的影响,为临床提供一种新的釉质抛光方法.方法:选择因正畸治疗需拔除4个第一前磨牙的患者8例,共32个牙.不同的个体,按同名牙分成4组,每组8个,分别用常规的方法和釉质处理仪进行牙面抛光处理,同时记录抛光时间,拔除后,测量其表面粗糙度Ra,然后扫描电镜观察.结果:正畸过程中釉质组织结构有变化,釉质处理仪抛光牙面优于常规方法,Ra值釉质处理仪组可以达到常规组的抛光效果,且效率提高.结论:釉质处理仪对牙表面的处理结果可以达到临床要求.

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来源
《牙体牙髓牙周病学杂志》 |2004年第6期|319-321|共3页
作者
付善民; 丁寅; 王海雪; 史真; 曹猛;
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作者单位

第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032;

第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032;

第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032;

第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032;

第四军医大学口腔医学院,陕西,西安,710032;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类口腔病理学;
关键词
釉质; 抛光; 电子显微镜; 表面粗糙度;

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