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刘晓伟; 郭会斌; 李梁梁; 郭总杰; 郝昭慧;
北京京东方显示技术有限公司,北京130012;
薄膜晶体管阵列工艺; 磁控溅射; 纯铝薄膜; 小丘; 量产良率;
机译:全喷墨印刷有机薄膜晶体管制造的规模化:晶体管阵列的器件性能和制造良率
机译:膜厚和退火温度对纯铝膜中小丘分布的影响
机译:RF磁控溅射沉积的快速热退火温度对缺氧Ti02.x的薄膜晶体管的影响
机译:通过RF磁控溅射透明薄膜晶体管的渗透薄膜的生长和透明薄膜晶体管的制造
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:优化并五苯薄膜晶体管性能:温度和表面条件引起的层生长改性
机译:退火温度对射频磁控溅射制造的Siznsno薄膜晶体管电性能的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:用于形成有机薄膜晶体管的电极的方法,该有机薄膜晶体管能够通过喷墨印刷工艺形成具有高分辨率的通道,由此形成的有机薄膜晶体管,包括该显示器的显示装置以及显示电子设备
机译:双电介质场效应晶体管,用于受保护的栅极结构,可提高薄膜晶体管矩阵寻址液晶显示器的良率和性能
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