小丘

摘要： 那过度优雅,超乎完美的景色啊,你这遭到损毁的煤炭河谷!在一小时之内,那不祥的美丽,那悦耳的歌声,金钱之神买断了你们的余韵!在长满茵茵绿草的小径上,在原始森林郁郁葱葱的幽谷中,圓滚滚的小丘,咕嘟冒泡的喷泉,那岩石,那溪流,大家都安眠吧!煤烟色的部落已侵入到,这温柔、浪漫、神圣的景色中。

摘要： 在地球上有一种美丽的独特地貌——它的色彩像天边红彤彤的晚霞,也如火炉上跳动的炽热火焰;它的地势凹凸不平,或像山峰高耸,或如小丘低缓。它就是——冯霞地貌。

摘要： 《草原》是语言大师老舍先生的作品,文质兼美,读来让人陶醉。课文第1自然段是对草原景色的描写,清新怡人,让人回味。特别是“那些小丘的线条是那么柔美,就像只用绿色渲染,不用墨线勾勒的中国画那样,到处翠色欲流,轻轻流入云际”“羊群一会儿上了小丘,一会儿又下来,走在哪里都像给无边的绿毯绣上了白色的大花”这两句,比喻精妙,“流”和“绣”就如神来之笔,耐人咀嚼。

摘要： 车的故事上火车时已是下午5点多了,一夜安睡。凌晨再难入眠。静听整个车厢里人们此起彼伏的軒声,突然感觉生活是这般的惬意。安睡卧榻是一件极美的事情——心无劳神之事方得如此啊。天色渐亮,按行程我们此刻应该已经在内蒙古了,窗外朦胧起伏的小丘和稀疏的植被似乎也在印证着我的想法。一条宽阔的大河!是黄河!于是,镜头里有了此行的第一张照片--黄河朝霞图。

摘要： 那儿虽然身处深山,但并不贫穷,有肥沃的土地,绿水青山,还有亲切的方言,清净的人家。那儿是我的家乡——江西吉安。回到家乡的第二天,我们一家子就去爬小丘“探险”了。小丘真的不高,大概也就百来米。我信心满满地随手捡了根粗木棍,就拉着爸爸妈妈的手一起上山了。

摘要： 这次我看到了草原。那里的天比别处的更可爱。空气是那么新鲜,天空是那么明朗,使我总想高歌一曲,表示我满心的愉快。在天底下,一碧千里,而并不茫茫。四面都有小丘,平地是绿的,小丘也是绿的。羊群一会儿上了小丘,一会儿又下来,走到哪里都像给无边的绿毯绣上了白色的大花。

摘要： 【甲】从小丘西行百二十步,隔篁竹,闻水声,如鸣珮环,心乐之。伐竹取道,下见小潭,水尤清冽。全石以为底,近岸,卷石底以出,为坻,为屿,为嵁,为岩。青树翠蔓,蒙络摇缀,参差披拂。潭中鱼可百许头,皆若空游无所依,日光下澈,影布石上。佁然不动,俶尔远逝,往来翕忽。似与游者相乐。潭西南而望,斗折蛇行,明灭可见。其岸势犬牙差互,不可知其源。

摘要： 本发明涉及一种减少铝薄膜产生小丘状缺陷的工艺。包括以下步骤：在二氧化硅衬底上，采用物理气相沉积方法低温沉积粘附层钛薄膜，粘附层钛薄膜覆盖在二氧化硅上表面；沉积阻挡层氮化钛薄膜，阻挡层氮化钛薄膜覆盖在粘附层钛薄膜上表面；高温沉积铝薄膜，铝薄膜覆盖在阻挡层氮化钛薄膜上表面；铝薄膜上表面沉积一层氧化铝薄膜之后再在氧化铝薄膜上表面沉积一层防反射层氮化钛薄膜，或者在铝薄膜上表面直接沉积一层防反射层氮化钛薄膜然后通入氮气直至防反射层氮化钛薄膜中的氮含量达到饱和。本发明的有益效果是：采用简单的工艺流程克服了铝薄膜在生产工艺过程中铝晶粒无序增大使铝薄膜产生小丘状的缺陷。

摘要： 本发明涉及一种减少铝薄膜产生小丘状缺陷的新工艺。包括以下步骤：在二氧化硅衬底上，采用物理气相沉积方法低温沉积粘附层钛薄膜，粘附层钛薄膜覆盖在二氧化硅上表面；沉积阻挡层氮化钛薄膜，阻挡层氮化钛薄膜覆盖在粘附层钛薄膜上表面；高温沉积铝薄膜，铝薄膜覆盖在阻挡层氮化钛薄膜上表面；铝薄膜上表面沉积一层氧化铝薄膜之后再在氧化铝薄膜上表面沉积一层防反射层氮化钛薄膜，或者在铝薄膜上表面直接沉积一层防反射层氮化钛薄膜然后通入氮气直至防反射层氮化钛薄膜中的氮含量达到饱和。本发明的有益效果是：采用简单的工艺流程克服了铝薄膜在生产工艺过程中铝晶粒无序增大使铝薄膜产生小丘状的缺陷。

摘要： 本发明公开了一种降低首片硅片铜小丘缺陷的方法，包括机台和第一硅片，所述机台包括工艺腔室，预热腔室，装载端口，其特征在于，所述方法为：步骤一：机台空闲时，工艺腔室SDC(关机清洁)触发，使工艺腔室气氛接近制程；步骤二：工艺腔室SDC的同时，第一硅片停留在装载端口等待传输；步骤三：等待工艺腔室SDC结束，机械手将第一硅片传输至工艺腔室中。通过优化氮化硅薄膜工艺的传片方式：将“第一片硅片传入预热腔室等待工艺腔室SDC结束”，优化为“第一片硅片停留在装载端口里等待工艺腔室SDC结束”，以此减少首片硅片在预热腔室的等待时间，后续重复此类条件跑货，不再出现首片硅片铜hillock缺陷跳高的现象。

摘要： 本发明提供一种金属层中小丘的检测方法和装置，属于小丘检测技术领域，其可解决现有的金属层中小丘的检测方法复杂、效率低、难以用于实际生产的问题。本发明的金属层中小丘的检测方法包括：采集所述金属层的光学图像；调整所述光学图像的对比度和亮度；将调整后的所述光学图像转换为黑白图像；对所述黑白图像进行分析，以所述黑白图像中的黑色像素作为对应小丘的点。

摘要： 本发明涉及一种减少铝薄膜产生小丘状缺陷的工艺。包括以下步骤：在二氧化硅衬底上，采用物理气相沉积方法低温沉积粘附层钛薄膜，粘附层钛薄膜覆盖在二氧化硅上表面；沉积阻挡层氮化钛薄膜，阻挡层氮化钛薄膜覆盖在粘附层钛薄膜上表面；高温沉积铝薄膜，铝薄膜覆盖在阻挡层氮化钛薄膜上表面；铝薄膜上表面沉积一层氧化铝薄膜之后再在氧化铝薄膜上表面沉积一层防反射层氮化钛薄膜，或者在铝薄膜上表面直接沉积一层防反射层氮化钛薄膜然后通入氮气直至防反射层氮化钛薄膜中的氮含量达到饱和。本发明的有益效果是：采用简单的工艺流程克服了铝薄膜在生产工艺过程中铝晶粒无序增大使铝薄膜产生小丘状的缺陷。

摘要： 本发明涉及一种减少铝薄膜产生小丘状缺陷的新工艺。包括以下步骤：在二氧化硅衬底上，采用物理气相沉积方法低温沉积粘附层钛薄膜，粘附层钛薄膜覆盖在二氧化硅上表面；沉积阻挡层氮化钛薄膜，阻挡层氮化钛薄膜覆盖在粘附层钛薄膜上表面；高温沉积铝薄膜，铝薄膜覆盖在阻挡层氮化钛薄膜上表面；铝薄膜上表面沉积一层氧化铝薄膜之后再在氧化铝薄膜上表面沉积一层防反射层氮化钛薄膜，或者在铝薄膜上表面直接沉积一层防反射层氮化钛薄膜然后通入氮气直至防反射层氮化钛薄膜中的氮含量达到饱和。本发明的有益效果是：采用简单的工艺流程克服了铝薄膜在生产工艺过程中铝晶粒无序增大使铝薄膜产生小丘状的缺陷。

摘要： 本发明公开了一种新的有效降低首片硅片铜小丘缺陷的方法，包括机台和第一硅片，所述机台包括工艺腔室，预热腔室，装载端口，其特征在于，所述方法为：步骤一：机台空闲时，工艺腔室SDC触发，使工艺腔室气氛接近制程；步骤二：工艺腔室SDC的同时，第一硅片停留在装载端口等待传输；步骤三：等待工艺腔室SDC结束，机械手将第一硅片传输至工艺腔室中。通过优化氮化硅薄膜工艺的传片方式：将“第一片硅片传入预热腔室等待工艺腔室SDC结束”，优化为“第一片硅片停留在装载端口里等待工艺腔室SDC结束”，以此减少首片硅片在预热腔室的等待时间，后续重复此类条件跑货，不再出现首片硅片铜hillock缺陷跳高的现象。

摘要： 本发明提供一种消除金属薄膜表面小丘状缺陷的方法，该方法包括：提供一半导体衬底；于真空环境下在该半导体衬底上制备一粘附层后，制备一金属薄膜覆盖所述粘附层的表面，且所述金属薄膜中形成有应力；在进行后续的退火处理工艺之前，对所述金属薄膜进行破真空应力释放工艺；其中，所述金属薄膜的热稳定性和机械性均低于所述粘附层和或所述阻挡层的热稳定性和机械性。通过本发明方法能够使金属薄膜能够在后续的高温退火工艺后，仍保持其表面的平整度，避免了小丘状突起缺陷的产生。

摘要： 本发明涉及一种降低影像传感器小丘的方法，包括淀积粘合层、铝遮蔽、破真空和淀积抗反射层，粘合层为一层厚度为20-100埃的金属钛层，且金属钛层上淀积有一层厚度为200-300埃的氮化钛层，铝遮蔽的厚度为1000-3000埃，抗反射层厚度为300-600埃。在铝淀积完成后进行破真空处理，即离开腔体依靠空气缓慢冷却，释放应力，为尽可能的减少对产能的影响，破真空的时间控制在20分钟至30分钟。本发明优化了铝遮蔽传统工艺，在铝淀积后采用破真空的方法来缓解铝薄膜的应力，解决小丘现象，本发明对比起传统铝遮蔽工艺，减少了小丘，降低了串扰，提高了传感器的质量。

摘要： 本实用新型涉及送水管。更好利用虹吸原理，使输送液体比较理想。小丘用水液输送管，其包含有三通管座、管件、控制阀及塞件，该三通管座二侧通管各延接有一管件，二管件终端分别延接有一控制阀，该三通管座的竖管位上有一定位转动的控制钮，控制钮终端有一阀塞，三通管座内的隔墙上有通孔，而通孔与竖管的注水口相通，其特征在于：该二管件上设有孔，供塞件结合，塞件包含有塞座、塞块及塞盖，该塞座成筒状，筒内部形成一容室，供容置塞块，筒外璧上设有螺纹部，筒底有一透孔，与容室相通；该塞块由橡胶具弹性、不透气、不透水的材质所制成，其体积略小于该塞座的容室，其高度略大于容室的高度；该塞盖内壁上设有螺纹部，与塞座的螺纹部螺合，塞盖内顶平面抵压塞块的顶平面，塞块的底平面与塞座的透孔密闭。用于输送液体。