膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响

余亮; 梁齐; 刘磊; 马明杰; 史成武

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膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS薄膜结构和光学性质的影响

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利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备SnS薄膜,用X射线衍射(XRD)、能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)分别对所制备的薄膜晶体结构、组分、表面形貌、厚度、反射率和透过率进行表征分析.研究结果表明:薄膜厚度的增加有利于改善薄膜的结晶质量和组分配比,晶粒尺寸和颗粒尺寸随着厚度的增加而变大.样品的折射率在1 500～2 500nm波长范围内随着薄膜厚度的增加而增大.样品在可见光区域吸收强烈,吸收系数达105 cm-1量级.禁带宽度在薄膜厚度增加到1 042 nm时为1.57 eV,接近于太阳电池材料的的最佳光学带隙(1.5 eV).

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来源
《发光学报》 |2015年第4期|429-436|共8页
作者
余亮; 梁齐; 刘磊; 马明杰; 史成武;
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作者单位

合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥230009;

合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥230009;

合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥230009;

合肥工业大学电子科学与应用物理学院,安徽合肥230009;

合肥工业大学化学与化工学院,安徽合肥230009;

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正文语种 chi
中图分类材料;薄膜的性质;
关键词
SnS薄膜; 射频磁控溅射; 膜厚; 晶体结构; 光学性质;

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