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石英衬底上Au缓冲层对ZnO薄膜微结构的影响

         
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摘要

采用单源化学气相沉积(SSCVD)法,在石英衬底上以Au为缓冲层,Zn4(OH)2(O2CCH3)6·2H2O为固相源制备ZnO薄膜. SEM和XRD测试ZnO薄膜的微结构,结果表明:相对于SiO2衬底上生长的ZnO薄膜,Au/SiO2衬底上生长的ZnO薄膜具有较好的结晶质量和表面平整度;对制备ZnO薄膜的衬底温度进行了工艺优化,结果表明:500 ℃时制备的ZnO薄膜颗粒大小均匀,结晶质量较好;通过荧光光谱仪对Au/SiO2衬底上的ZnO薄膜进行光致发光(PL)谱测试,ZnO薄膜在400 nm出现紫光发射峰,而没有出现与缺陷相关的深能级发射峰,表明ZnO薄膜具有较好的结晶质量.

著录项

  • 来源
    《发光学报》 |2010年第2期|219-222|共4页
  • 作者

    李宁; 陈金菊; 邓宏;

  • 作者单位

    电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;

    电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;

    电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 发光学;
  • 关键词

    化学气相沉积; 缓冲层; ZnO薄膜;

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