机械球磨对γ-Al_2O_3纳米颗粒的光致发光的影响

罗劲松; 范翊

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机械球磨对γ-Al_2O_3纳米颗粒的光致发光的影响

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研究了机械球磨对γ-Al_2O_3纳米粉末的光致发光行为的影响.γ-Al_2O_3两个发射峰位于343,378 nm,同时我们观察到一个分布在400～600 nm 宽带发射.我们发现两个发射峰强度随着球磨时间的增加而降低,但宽带发射的强度不发生变化.这些结果证明,两个发射峰是由于类似F~+心表面缺陷所致,而宽带发射是由于杂质所致.

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来源
《发光学报》 |2009年第6期|838-841|共4页
作者
罗劲松; 范翊;
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作者单位

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033;

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033;

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正文语种 chi
中图分类发光学;
关键词
机械球磨; 光致发光; 氧化铝;

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