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WU Jun; ZHAO F H; Ito Y; Yoshida S; Onabe; Shiraki Y;
Graduate School of Frontier Science;
Yokohama R&D Laboratory;
Research Center for Advanced Science and Technology The University of Tokyo;
731 Hongo;
Bunkyoku;
Toky;
Si掺杂GaN; MOVPE; 光致发光特性;
机译:通过具有超低位错密度的Si掺杂金属有机气相外延GaN模板,通过氢化物气相外延生长的高质量2英寸大块自由态GaN
机译:LP-MOVPE生长的未掺杂和Si掺杂的GaN中的迁移率崩溃
机译:通过MOVPE在4英寸Si(111)上外延生长GaN
机译:通过选择性MOVPE在(111)Si底物上生长的紫立岩GaN的甘/ algaMMQW(1-101)刻面的制备
机译:Si(1-x)Ge(x)(001)气源分子束外延期间的超高B掺杂:层生长动力学,掺杂剂掺入,电激活和载流子传输的机理研究。
机译:通过分子束外延在Si(111)上掺杂物刺激GaN纳米管状纳米结构的生长
机译:使用波长色散X射线光谱法研究MOVPE生长的InGaN外延层和掺杂镁的GaN的组成
机译:分子束外延生长mg掺杂GaN同质外延层的光学和磁共振研究。
机译:Si掺杂剂在具有较薄的BUFFER层的Si基体上生长的GaN纳米管的生长
机译:外延生长在带沟槽的Si <001>衬底上的立方相氮基化合物半导体薄膜
机译:在Si(111)/(001)SOI衬底或Si(001)/(111)SOI衬底上连续生长GaN和GaAs表象层的方法以及使用在Si(111)上连续形成的GaN和GaAs表象层的半导体发光器件模块)/(001)由此制造的SOI基板
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