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周磊; 尹桂林; 王玉东; 余震; 何丹农;
上海交通大学,材料科学与工程学院,上海,200240;
上海交通大学,纳米技术及应用国家工程研究中心,上海,200241;
WS2; MoS2; C; 摩擦性能; 磨损性能;
机译:用于直接光催化应用的金箔上MoS2 / WS2和WS2 / MoS2垂直堆叠的温度介导选择性生长
机译:MoS2 / WS2外延和非外延MoS2 / WS2异质结构中层间激子弛豫和吸收的改善
机译:混合工艺沉积TiN–WS2纳米复合涂层:反应溅射和团簇枪
机译:WS2 / MoS2多层薄膜在真空环境下的摩擦性能
机译:2D MOS2和MOS2 / WS2 Hetrosture的纳米结构表征,制造和装置
机译:过渡金属双硫属化合物:用于光电电化学氢气释放的厘米级多异质结MoS2 / WS2 / WSe2薄膜催化剂的直接原位生长(Adv。Sci。13/2019)
机译:受控硫化工艺合成大面积MoS2薄膜和MoS2 / WS2异质结构
机译:mos2薄膜润滑剂的摩擦磨损性能。
机译:填充MOS2或WS2的中空ZnS六角形纳米管,作为核壳结构固体润滑剂和空间机构的润滑剂改性剂
机译:硫化钼(MOS2)和硫化钨(WS2)催化剂的合成
机译:长链胺和/或羧酸和/或硫醇官能化的钨和钼硫化物(WS2,MOS2)的2D,1D,E 0D纳米晶体的“一罐”合成
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