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神经记录用硅基多通道微电极探针的设计与制造

         

摘要

为了从中枢神经系统记录电信号,半导体加工技术已经被用于微电极探针的制造.介绍了一种硅基探针的设计和制造工艺流程.我们已经制造出15 μm厚,3 mm长,100μm宽的记录用探针,每根探针含有7个记录点,间隔120 μm.在制造过程中使用微机械系统(MEMS)工艺中常用的硅表面微加工工艺:等离子增强化学气相淀积(PECVD),感应耦合等离子刻蚀(ICP)以及硅的各向异性刻蚀等.测试结果给出了探针的强度和阻抗特性.

著录项

  • 来源
    《传感技术学报》 |2006年第5期|1404-14061410|共4页
  • 作者单位

    中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点联合实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点联合实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点联合实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点联合实验室,北京,100083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体技术;
  • 关键词

    微电极探针; 表面微加工工艺; 神经记录;

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