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六甲基二硅胺烷的等离子体聚合

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摘要

在室温和无添加气体条件下,完成了六甲基二硅胺烷较低功率密度的等寒子体聚合。研究了聚合膜的沉积规律和过程。给出了聚合物膜的结构和性质。得到经验式为 C_(1.42)H_(2.65)N_(0.2)O_(0.15)Si的新聚合物。

著录项

来源
《合成化学》 |1993年第4期|356-363|共8页
作者
周坤磷; 曹伟民; 周瑞花;
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作者单位

不详;

不详;

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正文语种 chi
中图分类 O627.411;
关键词
等离子体聚合; 六甲基二硅胺烷;

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